質(zhì)保3年只換不修,廠家長(zhǎng)沙實(shí)了個(gè)驗(yàn)儀器制造有限公司。
電穿孔技術(shù)(Electroporation)是當(dāng)今生物學(xué)和醫(yī)學(xué)研究中最常用的基因?qū)敕椒ㄖ弧Mㄟ^(guò)高電場(chǎng)作用在細(xì)胞膜上形成瞬時(shí)可逆孔洞,使外源DNA、RNA或蛋白質(zhì)進(jìn)入細(xì)胞內(nèi)部,從而實(shí)現(xiàn)基因表達(dá)或功能分析。伯樂(lè)(Bio-Rad)研發(fā)的 Genepulser Xcell電穿孔儀 以其精確的電壓控制、靈活的波形模式、可編程參數(shù)設(shè)置以及高重復(fù)性,成為國(guó)際實(shí)驗(yàn)室廣泛采用的標(biāo)準(zhǔn)化轉(zhuǎn)染設(shè)備。
在整個(gè)電穿孔過(guò)程中,轉(zhuǎn)染參數(shù)(Transfection Parameters) 是決定實(shí)驗(yàn)成功率的核心因素。不同的細(xì)胞類型對(duì)電場(chǎng)強(qiáng)度、脈沖時(shí)間、波形類型、緩沖體系以及溫度條件的敏感度各不相同??茖W(xué)合理地設(shè)定和優(yōu)化這些參數(shù),能夠在最大化外源分子導(dǎo)入效率的同時(shí)保持較高的細(xì)胞存活率。本文將對(duì)Genepulser Xcell的關(guān)鍵轉(zhuǎn)染參數(shù)進(jìn)行系統(tǒng)解析,包括其定義、設(shè)置方法、優(yōu)化思路及常見(jiàn)問(wèn)題解決方案。
Genepulser Xcell由主機(jī)控制系統(tǒng)、Pulse Controller模塊、電穿孔槽(Cuvette Chamber)及外部接口組成。
主機(jī)控制系統(tǒng):負(fù)責(zé)脈沖輸出、電壓調(diào)節(jié)與實(shí)時(shí)監(jiān)控。
Pulse Controller:支持方波(Square Wave)與指數(shù)波(Exponential Decay)模式,用于不同細(xì)胞類型。
數(shù)據(jù)記錄模塊:自動(dòng)保存電壓、電容、脈沖時(shí)間、Droop值等實(shí)驗(yàn)參數(shù)。
安全防護(hù)系統(tǒng):具備自動(dòng)放電、過(guò)載保護(hù)與溫度保護(hù)功能。
當(dāng)瞬時(shí)高電場(chǎng)施加到細(xì)胞懸液中時(shí),細(xì)胞膜電位迅速上升,在納秒至毫秒時(shí)間內(nèi)形成微孔。電場(chǎng)移除后,膜孔逐漸閉合,部分外源分子被“困”在細(xì)胞內(nèi),從而實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)染。
電穿孔的核心目標(biāo)是 電場(chǎng)強(qiáng)度與作用時(shí)間的平衡:
電場(chǎng)太弱,無(wú)法形成孔;
時(shí)間太長(zhǎng),膜無(wú)法修復(fù),細(xì)胞死亡。
因此,Genepulser Xcell通過(guò)可精確調(diào)控的電壓、時(shí)間、波形及電容,實(shí)現(xiàn)最佳的能量輸入控制。
Genepulser Xcell的轉(zhuǎn)染參數(shù)主要包括以下幾類:
表示施加在電極之間的電位差,是影響電場(chǎng)強(qiáng)度的首要因素。
電壓過(guò)低:電場(chǎng)不足,DNA無(wú)法進(jìn)入細(xì)胞。
電壓過(guò)高:細(xì)胞膜不可逆破裂,導(dǎo)致死亡。
推薦范圍:
細(xì)菌:1.8–2.5 kV
酵母:1.2–1.8 kV
哺乳動(dòng)物細(xì)胞:200–400 V
植物原生質(zhì)體:300–600 V
電場(chǎng)強(qiáng)度E的計(jì)算公式為:
E=VdE = \frac{V}zb9nj7vE=dV
其中 d 為電極間距(通常為0.1–0.4 cm)。
控制電荷釋放速度和總能量。
大電容(>500 μF):脈沖持續(xù)時(shí)間長(zhǎng),適合植物或酵母。
小電容(25–50 μF):脈沖時(shí)間短,適合細(xì)菌或哺乳動(dòng)物細(xì)胞。
時(shí)間常數(shù)(τ)的計(jì)算公式為:
τ=R×C\tau = R \times Cτ=R×C
其中 R 為樣品電阻,C 為電容。該值反映指數(shù)波脈沖的持續(xù)時(shí)間。
在方波模式下,用戶可直接設(shè)定脈沖時(shí)間。時(shí)間過(guò)短無(wú)法形成足夠孔隙,過(guò)長(zhǎng)會(huì)引起膜損傷。
哺乳動(dòng)物細(xì)胞:5–10 ms
酵母:10–15 ms
植物原生質(zhì)體:10–20 ms
用于多脈沖模式。多次短脈沖可提升轉(zhuǎn)染效率,減少單次能量損傷。
例如:3×5ms,間隔1s。
Genepulser Xcell支持兩種波形輸出:
指數(shù)衰減波(Exponential Decay):適用于細(xì)菌、酵母;脈沖自然衰減,能量平滑釋放。
方波(Square Wave):適用于哺乳動(dòng)物細(xì)胞;電場(chǎng)持續(xù)穩(wěn)定,膜修復(fù)可控。
由緩沖液離子濃度與樣品密度決定。
電阻越低,電流越大,釋放能量越快。一般推薦電阻范圍:
哺乳動(dòng)物細(xì)胞:100–200 Ω
酵母:200–400 Ω
細(xì)菌:400–600 Ω
緩沖體系影響電導(dǎo)率與細(xì)胞耐受性。
推薦使用低離子、等滲體系,如HEPES-甘露醇緩沖液或無(wú)NaCl PBS。
1 mm間距杯:細(xì)菌、酵母(體積40–80 μl)
2 mm間距杯:哺乳動(dòng)物細(xì)胞(體積200–400 μl)
4 mm間距杯:植物原生質(zhì)體或大細(xì)胞
體積過(guò)大會(huì)降低場(chǎng)強(qiáng),過(guò)小則易產(chǎn)生電弧。
(1)選擇電容檔位:25、125或960 μF;
(2)設(shè)定目標(biāo)電壓(如2.0 kV);
(3)儀器自動(dòng)計(jì)算并顯示理論τ值(時(shí)間常數(shù));
(4)執(zhí)行穿孔,儀器記錄實(shí)際τ值;
(5)若實(shí)際τ偏離理想值(<3 ms或>10 ms),可調(diào)整電容或樣品濃度。
典型參數(shù)示例:
大腸桿菌:2.5 kV,25 μF,200 Ω,τ≈5 ms
酵母:1.5 kV,125 μF,250 Ω,τ≈8 ms
(1)輸入電壓(如300 V);
(2)設(shè)定脈沖持續(xù)時(shí)間(如8 ms);
(3)如需多脈沖,設(shè)置次數(shù)與間隔;
(4)選擇適當(dāng)?shù)木彌_液(低電導(dǎo));
(5)保存程序以便重復(fù)使用。
典型參數(shù)示例:
CHO細(xì)胞:300 V,10 ms,單脈沖
HeLa細(xì)胞:250 V,8 ms,雙脈沖(間隔1 s)
神經(jīng)細(xì)胞:200 V,5 ms,方波模式
固定電壓或電容,僅調(diào)整單一參數(shù)(如時(shí)間)以觀察轉(zhuǎn)染效率變化,適用于新細(xì)胞系初步測(cè)試。
利用Genepulser Xcell的Pulse Controller進(jìn)行自動(dòng)掃描實(shí)驗(yàn):
設(shè)置不同電壓與時(shí)間組合;
記錄每組樣品的轉(zhuǎn)染率與活率;
建立“響應(yīng)曲面模型(Response Surface Model)”,找出最優(yōu)區(qū)間。
提高電壓 → 孔形成率上升,活率下降;
增大時(shí)間 → 進(jìn)入效率上升,但熱損傷加劇;
增加脈沖次數(shù) → 可提高導(dǎo)入量,但應(yīng)保證間隔足夠;
優(yōu)化緩沖液 → 降低電導(dǎo)率可避免電弧。
低溫(4℃)可減輕電擊熱效應(yīng),提高細(xì)胞修復(fù)能力;
樣品濃度過(guò)高會(huì)增加電導(dǎo),建議OD???或細(xì)胞密度控制在中等范圍。
| 細(xì)胞類型 | 波形 | 電壓(V) | 時(shí)間(ms) | 電容(μF) | 結(jié)果特點(diǎn) |
|---|---|---|---|---|---|
| 大腸桿菌 | 指數(shù)波 | 2.5kV | τ=5 | 25 | 高效率,需低離子緩沖液 |
| 酵母 | 指數(shù)波 | 1.8kV | τ=8 | 125 | 需滲透保護(hù)劑甘露醇 |
| CHO | 方波 | 300 | 10 | — | 轉(zhuǎn)染率高,活率80% |
| HeLa | 方波 | 250 | 8 | — | 適合雙脈沖 |
| HEK293 | 方波 | 270 | 5 | — | 高表達(dá)穩(wěn)定 |
| 植物原生質(zhì)體 | 方波 | 400 | 15 | — | 需等滲緩沖液 |
這些參數(shù)僅供參考,實(shí)際實(shí)驗(yàn)應(yīng)結(jié)合細(xì)胞特性與質(zhì)粒大小進(jìn)行微調(diào)。
電壓與時(shí)間共同決定電場(chǎng)能量密度。能量過(guò)低則DNA難以進(jìn)入;過(guò)高則造成細(xì)胞死亡。最佳效率通常在能量閾值的60–80%區(qū)間。
脈沖能量越大,細(xì)胞膜恢復(fù)難度越高。通過(guò)降低時(shí)間或采用多脈沖模式,可平衡效率與活率。
參數(shù)波動(dòng)會(huì)導(dǎo)致結(jié)果差異。Genepulser Xcell采用數(shù)字反饋控制系統(tǒng),使輸出誤差小于±2%,確保實(shí)驗(yàn)重復(fù)性。
| 問(wèn)題 | 可能原因 | 對(duì)應(yīng)解決方案 |
|---|---|---|
| 轉(zhuǎn)染率低 | 電壓過(guò)低、時(shí)間過(guò)短 | 提高電壓或延長(zhǎng)時(shí)間 |
| 電弧放電 | 緩沖液離子濃度高 | 使用低離子緩沖液,排氣泡 |
| 細(xì)胞死亡率高 | 電壓或時(shí)間過(guò)大 | 降低參數(shù)或預(yù)冷樣品 |
| 波形異常 | 電極老化或接觸不良 | 清潔電極或更換杯 |
| 重復(fù)性差 | 樣品濃度不均 | 標(biāo)準(zhǔn)化細(xì)胞密度與洗滌步驟 |
每次電穿孔后,Genepulser Xcell會(huì)自動(dòng)保存以下數(shù)據(jù):
電壓、電容、時(shí)間、波形、Droop值;
實(shí)際輸出與設(shè)定差異;
時(shí)間常數(shù)與樣品阻抗;
警報(bào)或異常代碼。
研究者可將數(shù)據(jù)導(dǎo)出為CSV文件,用Excel或統(tǒng)計(jì)軟件進(jìn)行參數(shù)分析、繪制能量-效率曲線,從而持續(xù)優(yōu)化實(shí)驗(yàn)方案。
為確保參數(shù)輸出精準(zhǔn),應(yīng)定期維護(hù)設(shè)備:
每6個(gè)月檢測(cè)輸出電壓與時(shí)間精度;
保持電極清潔,防止電阻異常;
每年由廠商進(jìn)行校準(zhǔn)檢測(cè);
使用原裝電容模塊與樣品杯,防止誤差積累。
長(zhǎng)沙實(shí)了個(gè)驗(yàn)儀器制造有限公司提供的3年質(zhì)保只換不修服務(wù),為儀器的長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行提供保障。
在導(dǎo)入Cas9/sgRNA復(fù)合體時(shí),可采用低電壓長(zhǎng)時(shí)間模式(如200 V,15 ms),減少細(xì)胞應(yīng)激。
短時(shí)間高電壓(如350 V,5 ms)適用于mRNA導(dǎo)入,能量集中而損傷小。
需較長(zhǎng)時(shí)間脈沖(10–20 ms)以確保大分子穿透。
未來(lái)版本的Genepulser Xcell支持自定義波形序列,實(shí)現(xiàn)高精度轉(zhuǎn)染。
Genepulser Xcell電穿孔儀以高度可控的轉(zhuǎn)染參數(shù)系統(tǒng),成為生物實(shí)驗(yàn)室中精準(zhǔn)基因?qū)氲暮诵脑O(shè)備。通過(guò)科學(xué)設(shè)定電壓、時(shí)間、電容、波形及緩沖體系,可以在保持高轉(zhuǎn)染效率的同時(shí)保障細(xì)胞活率。
系統(tǒng)的參數(shù)記錄與導(dǎo)出功能,為實(shí)驗(yàn)重復(fù)性與數(shù)據(jù)可追溯性提供了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。
在長(zhǎng)沙實(shí)了個(gè)驗(yàn)儀器制造有限公司提供的“三年質(zhì)保、只換不修”服務(wù)保障下,用戶可長(zhǎng)期穩(wěn)定使用該設(shè)備,實(shí)現(xiàn)從基礎(chǔ)研究到應(yīng)用開(kāi)發(fā)的高質(zhì)量轉(zhuǎn)染實(shí)驗(yàn)。
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